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SWE-UV7型PCB双面曝光机

  • 发布日期:2007-04-28 浏览次数323

  一、主要用途:
  干膜、湿膜、内层双面或单面曝光。

  二、主要系统:
  曝光控制、光源、冷却、台面真空、电控等。

  三、曝光控制:
  采用触摸式控制,全数字化设定操作,能量控制精确。

  四、光源系统:
  常态点灯方式,并装有动作灵巧的自动遮光器之设置。

  五、冷却系统:
  光源冷却,采用间接式水冷,冷却方式以蒸馏水置于石英玻璃水套内,经板式热交换器充分进行热交换,使效率发挥致极点,曝光台面采用强制气冷方式,且可控制温度。

  六、真空系统:
  采用MYLAR薄膜对玻璃配合真空系统之强大吸力,达到紧密配合之高效果。

  七、保护措施:
  漏电保护,紧急开关,异常讯息警报及显示,水箱之水温过高保护,冷却异常自动熄灭,冷却循环水压力异常自动熄灯等。

  八、技术参数:

项 目 规 格 项 目 规 格
电源 AC 3φ 380V 00A 50HZ 监控系统 自我诊断功能及异常讯息提示
光源系统 7KW卤化金属灯2支 曝光量控制 UV能量积算器
有效曝光面积 850mm×650mm 照度均匀性 85%以上
曝光框架 上层:MYLAR薄膜
下层:强化玻璃
灯管寿命 800h,30mv/cm2±5%
冷却水源 10吨之冷却水塔,2-3kgf/cm2 真空装置 干式真空泵浦,正常操作下真空压力650mm/hg以上
台面冷却方式 气冷式冷却 机台尺寸 2700mm×1400mm×1765mm
灯管冷却方式 间接式水冷 重 量 约1000kg
控制方式 触摸式人机介面

 

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