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流体抛光机与其他传统抛光去毛刺设备的比较大区别在于，研磨介质不同，传统抛光设备，无论是砂带、砂轮、布轮、磁力、超声波、振动研磨等，他们的研磨介质都是固体，只是材质与颗粒度大小有区别。而流体抛光的研磨介质是液体或半流体，这一变化在抛光史上是具有革命意义的。因为我们都知道，只有液体才可以真正意义上的不受工件结构影响，而固体研磨介质，是没办法的。
如图中产品，看着不复杂，但是其中的毛刺清理非常麻烦。一个工人至少也要1-2分钟，才能完成一个产品，还是熟练工，刚上手的时间可能更长。这种产品用磁力或是等离子去毛刺并不理想，会有死角。这种产品，恰好是磨粒流去毛刺的领域，1分钟可以解决10余个，可以替代几十个人工。
因为磨粒流去毛刺是运用软性磨料挤压研磨方式，所以并不会影响电子元器件的公差，可以比较大限度地保证产品精度。同时，在抛此类产品时，我们会设计专用工装予以保护，让产品免于挤压或划伤。
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流体抛光机运用了中国古代“水滴石穿”的原理，利用液体在高压强下的快速流动进行研磨抛光，抛光效果更加可控。而且液体摩擦不会产生高温，不会灼烧工件，对操作者来说也十分安全，因此流体抛光设备被称为后工业时代相当有发展潜力的抛光工艺！电子元器件通常尺寸较小，精密度高，零几年大陆电子行业兴起的时候，对于电子元器件去毛刺还没什么好办法，只能人工去毛刺。所以那时候电子行业当仁不让地成为劳动密集型产业，一个稍微具有规模的电子厂都需要大量的工人，但是2015年之后，产业工人越来越难招，而且流动性大。现在的年轻人，少有愿意在流水线上工作的。好在去毛刺设备与工艺的日渐成熟，电子元器件机器换人，势在必行。
